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第十一届植硅体国际研讨会在校召开

发表时间:2018-09-20     点击:次     编辑:谢晓

  (地大之声通讯员顾延生 张学海)9月14至16日,第十一届植硅体国际研讨会在八角楼举行。来自美国、俄罗斯、德国、法国、比利时、阿根廷、日本、印度、南非、斯里兰卡、孟加拉国等国家和地区的80余名代表参加。

  中国科学院院士殷鸿福、国际植硅体学会主席Mikhail Blinnikov教授、环境学院院长马腾教授等参加了开幕式。

  参会代表围绕“植硅体形态鉴定与分类标准、表土植硅体及其环境意义、化石植硅体与古环境重建、植硅体与环境考古、植硅体与全球变化”等主题,交流了植硅体在地球科学和环境考古领域最新的研究及应用成果。

  “国际植硅石研究会议”为两年一度的国际性学术会议,始于 1996年。本届会议是首次在中国召开。该会议的召开不仅有利于促进相关学科的发展,还能扩大中国学者的国际影响力。


(地大之声)

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